并没有意识到，这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系，但实际上都是方鸿派过去的人，而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。
现在大基金的前都在落地到实处，比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱，而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿，几乎提供了花不完的钱。
拿了那么多的钱，基本都砸到研发项目里。
目前新微半导体同时在搞三代光刻机，因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进，是可以平行研发的，所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。
这三个团队分别攻关第四代arf光刻机，第五代arfi光刻机，以及第六代极紫外光euv光刻机。
第四代的arf光刻机与第三代krf原理一样，但光源升级，采用193nm光源的光刻机，这两种称之为duv光刻机。
而第五代arfi光刻机，采用的也是193nm光源，但这种又与arf不一样，之前所有的光刻机其介质采用的是空气，但到了arfi光刻机时，采用的是水。
光线在经过水时，会有折射，所以虽然arfi光刻机采用193nm波长光源，经水折射时，等效于134nm波长的光源，所以这种光刻机，叫做浸润式光刻机。
说起来，曾经业界光刻机技术停止了很多年，尼康、佳能想把光源从193nm升级为165nm，但好多年没成功。
而抬积电提出来用水作介质，就跳过157nm，变成143nm了。
尼康、佳能很傲慢，不理抬积电，那时候asml只是个小厂，也敢于一试，最后就搏出了asml的未来，研发出了arfi浸润式光刻机，然后打得尼康、佳能一败涂地，成就了今天的行业地位。
而第六代euv光刻机，采用的则是13.5纳米的极紫外线光源了，这种光刻机目前全世界都
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