真要问起来,其实大部分说来说去,也只知道‘华威’、‘光刻机’、‘中芯国际’这几个词。
如果你问他,华威旗下的海思,是家芯片设计公司还是生产公司,
卡脖子的光刻机是多少制程以下的,
中芯国际制造芯片,除了要光刻机还要什么设备和材料,哪些是只能进口的……
估计没几个人答得上来。
因此对于大部分不懂光刻机,不知道euv光源重要性,却又对国产光刻机翘首相盼的国人来说,过早的宣发,说不定还会起反效果。
不过虽然没有大肆宣传,但因为也没有保密,消息还是很快就在半导体行业流传开了。
最先接到消息的,是魔都光所。
他们的lpp光源研发项目,明年的科研经费直接就被砍了八成,
如果明年这条技术路线没有重大突破,估计就得直接解散项目组了……
其实上面已经很留情面,给了他们相当长的缓冲时间。
毕竟有了能够直接商用的dpp光源,
在没有理论证明,lpp比dpp更有发展潜力之前,继续攻关lpp就纯属浪费资源了。
其次得到消息的,则是魔都微电子。
作为华国光刻机研制领域的龙头和希望,华国唯一一家,可以量产90nm光刻机的半导体企业,他们自然也是第一时间,就得到了常春光所技术突破的消息。
震惊之余,他们的第一反应,就是立刻向常春光所,采购一台euv光源,开始进行euv光刻机的立项研发。
结果常春光所的回复是,最快交货日期也得明年年中。
而原因,竟然是大秦光学不但把实验样机给买了,还直接预定了接下来的四台!
加上常春光所,自己也要一台继续测试优化,
这就意味着,魔都微
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