分钟了。
李东坐在座位上,看着试卷的最后一页,眼神很复杂。
他一直觉得自己为了改变命运,在群里披着马甲薅那些科学巨匠的羊毛,已经算是挺不要脸的行为了。
但是,今天看了华轩科技出的这道压轴题,李东才知道,什么叫“资本的厚颜无耻”!
【某半导体设备企业正在研发 28nm工艺节点量产型浸没式光刻系统,核心要采用 193nm arf准分子激光光源,局部浸没式成像架构,在投影物镜最后一片镜片与晶圆表面之间,填充折射率 n=1.44的超纯水作为成像介质,以提升系统分辨率和成像精度。
系统工作时,晶圆台以匀速直线扫描完成整片晶圆曝光,曝光激光的能量会在浸没液中产生局部瞬态温升,进而引发成像误差。】
某半导体企业?到底是哪个半导体企业呢?好难猜呀。
看完这个背景,再看问题。
李东的眼角都开始抽搐了。
【请你设计一套配套的成像误差实时补偿方案,需同时满足以下所有硬性指标:
补偿精度:可将浸没介质折射率波动带来的曝光线宽误差,控制在±1.2nm以内;
响应速度:补偿延迟≤1ms,可适配晶圆台≥1200mm/s的匀速扫描速度;
抗干扰能力:补偿效果不受浸没液瞬态温度波动、流速扰动、溶解气体含量变化的影响;
结构约束:方案不得改动现有曝光光学系统的核心结构与参数,不得改变浸没介质的成分与基础物性,无任何与晶圆表面直接接触的部件。
量产要求:方案核心部件可标准化批量生产,单套系统物料成本≤100万元人民币。】
“呵呵。”
这题如果是说人话的话就是:
我们国威装备现在在搞浸没式光刻机。
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